2025年臺灣散熱產業發展與主要廠商動態
- 2026/07/20
- 1106
- 31
2025年可視為臺灣散熱產業的重要轉折點,隨著AI資料中心建設持續推進,液冷散熱需求快速提升,產業成長動能逐步由傳統PC與消費性電子市場,轉向AI基礎設施需求所帶動,進入2026年後,隨著新一代AI平台陸續導入,散熱技術、產品布局及企業發...
2025年可視為臺灣散熱產業的重要轉折點,隨著AI資料中心建設持續推進,液冷散熱需求快速提升,產業成長動能逐步由傳統PC與消費性電子市場,轉向AI基礎設施需求所帶動,進入2026年後,隨著新一代AI平台陸續導入,散熱技術、產品布局及企業發...
隨著AI伺服器功率持續提升,液冷技術已成為資料中心散熱發展的重要方向。本文透過分析2026年NVIDIA GTC TAIPEI與COMPUTEX兩大展會,探討液冷供應鏈最新變化及次世代散熱技術發展趨勢。研究發現,臺廠仍掌握水冷板、分歧管、...
當GPU功耗快速攀升的情況,單一伺服器、單一機櫃甚至到整座AI資料中心的熱管理架構,都正進入前所未有的壓力測試。傳統資料中心主要依賴氣冷技術,透過風扇、冰水主機與冷熱通道隔離來降低伺服器溫度。但在AI時代,單一晶片、單一機櫃的功率密度正以...
隨著AI運算需求快速攀升,2026年發表的Vera Rubin晶片功耗突破2,000W,對於資料中心散熱問題再度帶來新挑戰,本篇以液冷技術為主軸,梳理從晶片端的高導熱材料與微流控設計、模組層級的液冷板型態升級與機櫃結構變化,說明各層級技術...
隨著AI與高效能運算快速成長,GPU熱設計功耗(TDP)持續突破千瓦級,傳統氣冷架構逐漸逼近技術與能源效率的極限。本文解析液冷板、冷卻液分配單元(CDU)、快接頭與分歧管等關鍵零組件之技術原理、材料選擇與設計方向,並比較氣冷與液對氣、液對...
Supercomputing 2025 (SC25)展會於2025年11月在美國舉行,展會趨勢顯示高效能運算(HPC)已與人工智慧(AI)深度融合,共同驅動了兆瓦級資料中心實體基礎設施(電力與散熱)的革命。AI/HPC運算的未來在於系統級...
AI與高效能運算興起,資料中心面臨算力與能耗挑戰,單櫃功率大幅攀升,傳統架構已遇瓶頸。本文指出三大技術趨勢:首先,電源系統朝向800V高壓直流(HVDC)架構演進,能減少電力轉換損耗並提升空間利用率,預計將成為AI資料中心的標準配置。其次...
2025年國際儲能系統技術聚焦於大容量電池芯(320Ah至2710Ah)、大組串高電壓直流架構、液冷熱管理技術及AI智慧化管理,並推動構網型控制技術以提升電網穩定性與安全性,這些技術相互促進,形成高效、安全且低成本的儲能解決方案,推動全球...
隨著AI晶片功耗不斷攀升,伺服器散熱已成為決定算力邊界的關鍵課題。傳統氣冷方案難以因應動輒上千瓦的熱設計功耗,液冷因而成為高效能運算伺服器的必然選擇。然而,液冷系統亦伴隨漏液、流量異常等潛在風險,可能導致伺服器短路或非計畫性停機。為此感測...