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深入盤點半導體先進製程用化學品的需求

• 2026/10/02
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半導體的製程非常繁瑣，從準備好的一片矽晶圓到封裝、測試完成，其間歷經幾乎上千道的手續，且每一道製程都是關鍵，不但設備是關鍵，製程技術是關鍵，連材料功能、規格與特性的選用都是關鍵，但是要完美的完成一顆IC，最重要的還是材料，正所謂「巧婦難為...

製程微縮，下世代微影技術朝向互補式發展

• 2015/03/20
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【內容大綱】 一、全球半導體製程技術發展 二、下世代微影製程技術，延伸193i、投資EUV、眺望E-beam (一)不斷進化升級以克服晶片製造瓶頸的浸潤式微影技術，但經濟效益低 (二)眾所矚目的下世代微影技術-EUV，生產力是一大挑戰 (...

半導體下世代製程發展難題

• 2014/08/25
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【內容大綱】 一、先進製程技術的瓶頸 二、關鍵的微影技術，光源的選擇? 三、IEKView 【圖表大綱】 表一 先進製程技術的電晶體演進 圖一 製程微縮與微影技術的演進關係 表二 下世代微影技術的選擇

如果EUV的發展延期了-從製造成本方面探討

• 2013/06/13
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【內容大綱】 一、微影設備市場需求 二、發展EUV設備的必要性 三、IEK View 【圖表大綱】 圖一 雙重曝光製造流程 圖二 黃光微影設備支出佔設備總支出比例 圖三 黃光微影設備分類趨勢圖 圖四 使用雙重曝光技術與EUV所需之製...

從SPIE 2012看微影技術進展

• 2012/10/08
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一、奈米微影技術發展二、微影技術 ITRS Roadmap Lithography Scaling三、光阻材料與先進製程四、超紫外光微影技術(Extreme Ultra-Violet Lithography, EUVL)五、ArFi多重圖...

超紫外光微影技術的發展與瓶頸

• 2011/02/15
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全球半導體大廠在下世代先進微影製程發展趨勢與佈局剖析

• 2010/11/17
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一、介紹二、下世代微影技術種類三、下世代微影技術之進展與挑戰四、工研院電光所的奈米微影技術發展與應用五、總結六、參考文獻

22奈米以下先進製程微影技術發展趨勢以及對台灣半導體產業之影響分析

• 2010/05/27
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一、22奈米以下先進製程將進入全新製程領域 二、浸潤式微影技術搭配多重曝光技術、多重電子束微影技術、超紫外光微影技術等三種技術較被看好 三、22奈米以下先進製程發展對台灣半導體產業之影響分析四、IEK VIEW

國際大廠傾向選擇EUV和E-beam技術

• 2008/12/29
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半導體設備商對18吋晶圓廠態度分析

• 2008/11/14
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