製程微縮，下世代微影技術朝向互補式發展
What's the next generation lithography?
- 2015/03/20
- 2409
- 64
【內容大綱】
- 一、全球半導體製程技術發展
- 二、下世代微影製程技術，延伸193i、投資EUV、眺望E-beam
- (一)不斷進化升級以克服晶片製造瓶頸的浸潤式微影技術，但經濟效益低
- (二)眾所矚目的下世代微影技術-EUV，生產力是一大挑戰
- (三)致力於提升晶片生產速度的無光罩多重電子束微影技術
- 三、IEKView
【圖表大綱】
- 圖一 2012-2018F年晶圓製造廠設備支出與微影設備的比重趨勢
- 圖二 微影技術發展藍圖
- 圖三 使用浸潤式多重微影技術實現10奈米以下製程方法
- 圖四 EUV微影設備曝光速度及生產力
- 圖五 微影技術發展趨勢
- 圖六 下世代微影製程技術之進展