3D-IC晶圓薄化關鍵技術與材料
- 2013/04/03
- 4860
- 148
【內容大綱】
- 一、前言
- 二、晶圓薄化製程
- 三、晶片的堆疊與結合(Bonding)
- 四、專家觀點
【圖表大綱】
- 圖一 厚度5um thin wafer(ITRI/Ad-STAC)
- 表一 各家暫時性接著劑比較
- 圖二 BrewerScience公司晶圓薄化的製程
- 圖三 Zonebond製程
- 圖四 Zonebond接著均勻性測試
- 圖五 Zero Newton晶圓薄化系統
- 圖六 De-bonding機制
- 圖七 3M Wafer Support System(WSS)材料介紹
- 圖八 3M wafer support system(WSS) bonding/de-bonding製程介紹
- 圖九 HD-3007特性規格表
- 圖十 HD-3007 bonding製程條件
- 圖十一 HD-3007 de-bonding製程條件
- 圖十二 T-MAT Process