22奈米以下先進製程微影技術發展趨勢以及對台灣半導體產業之影響分析 2010/05/27 1448 36 郭惠華/技轉中心 、陳玠瑋/IEK 訂閱(0) 全選 取消選取 確認訂閱 IC產業 #微影 #製程 #晶圓 一、22奈米以下先進製程將進入全新製程領域 二、浸潤式微影技術搭配多重曝光技術、多重電子束微影技術、超紫外光微影技術等三種技術較被看好 三、22奈米以下先進製程發展對台灣半導體產業之影響分析四、IEK VIEW 本文為 K卡會員相關模組訂戶 限閱文章， 請先登入或升級。 本文檔案22奈米以下先進製程微影技術發展趨勢以及對台灣半導體產業之影響分析.pdf36次 下載檔案 推薦閱讀