i卡會員

5G、AI應用帶來高階晶片商機，光阻稀釋劑作為IC製造微影製程關鍵原物料，預期未來需求將隨著半導體產業發展而持續成長。

光阻稀釋劑為製程耗材，製程後全數成為廢棄物，在半導體產業屬於大宗廢棄物之一，本文呈現國內、外半導體製程廢光阻稀釋劑再利用現況，並分析國內面臨問題，供國內業者未來投入發展或政府機關政策推動方向參考。

【內容大綱】

• 一、光阻稀釋劑簡介
• 二、我國IC製造廢光阻稀釋劑回收再利用現況
  • (一)我國IC製造廢光阻稀釋劑產出概況
  • (二)廢光阻稀釋劑回收業者及再生產品流向
  • (三)光阻劑複雜成分導致IC製造光阻稀釋劑封閉循環利用仍面臨瓶頸
  • (四)廢光阻稀釋劑於能源再利用
• 三、國際半導體產業之廢光阻稀釋劑再利用現況
  • (一)Intel作為燃料及再生工業級溶劑
  • (二)台積電中國南京廠再生為工業級溶劑
  • (三)韓商Samsung再生為工業級溶劑
  • (四)日本半導體產業再利用流向
• IEKView

【圖表大綱】

• 圖一、光阻稀釋劑屬於IC製造製程大宗原物料之一
• 圖二、IC製造光阻稀釋劑成分
• 圖三、光阻稀釋劑應用於微影—光阻塗佈製程
• 圖四、光阻塗佈預塗與洗邊程序皆使用光阻稀釋劑
• 圖五、我國IC製造廢棄物類型占比及廢光阻稀釋劑產出量業者占比
• 表一、我國廢光阻稀釋劑再生產品流向
• 圖六、我國廢光阻稀釋劑回收再生產業鏈
• 圖七、我國面板業廢光阻稀釋劑已實現循環經濟3.0：封閉循環
• 圖八、廢光阻稀釋劑不純物主要來自光阻劑
• 圖九、法規限制下，廢光阻稀釋劑無法作為綠電燃料
• 圖十、Intel廢光阻稀釋劑再利用模式
• 圖十一、台積電南京廠廢光阻稀釋劑再利用模式
• 圖十二、Samsung再生為工業級溶劑
• 圖十三、日本半導體產業廢光阻稀釋劑再利用模式
• 圖十四、全球半導體產業廢光阻稀釋劑再利用概況