CMP廢水處理發展與挑戰 2026/07/03 8 1 半導體產業近年快速成長，在推動科技與經濟進步的同時，也對環境帶來嚴峻挑戰。隨著製程節點由N世代演進至N+3世代，其用水量逐年增長達1.9倍，衍生的大量廢水已成為關鍵議題。其中，成分複雜且佔總製程廢水約35%的CMP廢水尤為棘手。因此，開發... 鄭緁玲 #半導體材料 #化學機械研磨液 #CMP #廢水處理 #水資源