半導體前段製程技術發展趨勢 2013/01/21 4312 224 【內容大綱】 一、製程技術解說與演進 (一)28奈米HKMG製程 (二)下一世代晶片製程 二、IEK View 【圖表大綱】 圖一 在各個技術節點下，閘極氧化層與漏電流的關係 圖二 閘極優先製程 圖三 閘極後製製程 表一 閘極優先... 蕭凱木 #製程 #閘極 #介電係數