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半導體製程中CMP是一個消耗品密集型製程，拋光墊、研磨液、以及清洗液等消耗品的成本在總擁有成本中占比較高。廠商皆希望在不影響性能的前提下降低成本。因此，對於壽命更長、性能更優、且成本更具競爭力的消耗品需求至關重要。例如，了解在CMP材料方面的需求以判斷市場之發展，熟知領導廠商供應特性，使貨源不缺乏並且降低成本，以滿足生產之穩定性。其次隨著先進製程之需求，必須滿足新興材料的特殊挑戰，實現最佳製程效果，有必要針對CMP技術與市場發展進行探究。

【內容大綱】

• 一、前言
• 二、CMP之關鍵技術
• 三、CMP之關鍵材料市場與發展
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【圖表大綱】

• 圖1、國際CMP研磨液市場規模預估
• 圖2、國際CMP研磨墊市場規模預估
• 圖3、國際CMP清洗液市場規模預估