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隨著半導體在AI世代的角色越發重要，對於製造半導體的材料需求也進一步發酵。有機類光阻劑、顯影劑、稀釋劑與去光阻劑與無機類清洗、蝕刻的酸液為用量總和達到95%的超大宗化學品，而且使用完畢都要報廢，不存留於晶片中，可說是晶片成功背後的無名英雄。

預估無機酸類液體每年約以CAGR 5%的成長，而有機類的光阻則以先進EUV光阻有34.3%的成長為主要推升力道。

我們在使用液體化學品的同時，也需要考慮供應鏈韌性與循環再生的問題，除了讓產業永續，也能讓環境永續。

【內容大綱】

• 一、前言
• 二、光阻劑、顯影劑、稀釋劑與去光阻劑應用趨勢
• 三、清潔、蝕刻性液體化學品應用趨勢
• IEKView

【圖表大綱】

• 圖一、半導體廠使用材料比例，不含氫氣、氧氣、氮氣與純水
• 表一、液態化學品雜質分類
• 表二、光阻劑種類、應用範圍與激發光源
• 表三、光阻劑中主要成分比例
• 表四、主要光阻劑與顯影劑2023年全球市場、生產廠商市占與未來年複合成長率預估
• 表五、高純度清潔液、蝕刻液配方
• 表六、半導體製程五大汙染物與其來源
• 表七、清潔、蝕刻用液體化學品2023年全球市場、生產廠商市占與未來年複合成長率預估