從SPIE 2012看微影技術進展 2012/10/08 2332 95 陳維恕/工研院電光所 訂閱(0) 全選 取消選取 確認訂閱 IC產業 #微影 #圖案 #製程 一、奈米微影技術發展二、微影技術 ITRS Roadmap Lithography Scaling三、光阻材料與先進製程四、超紫外光微影技術(Extreme Ultra-Violet Lithography, EUVL)五、ArFi多重圖案化技術(ArFi Multiple Patterning, ArFi-MP)六、多電子束直寫技術(Multiple E-beam Direct Writing, MEBDW)七、導向式自組合技術(Directed Self Assembly, DSA)八、奈米壓印微影技術(Nano-Imprint Lithography, NIL)九、量測技術(Metrology Technology)十、專家觀點 本文為 K卡會員相關模組訂戶 限閱文章， 請先登入或升級。 本文檔案從SPIE 2012看微影技術進展.pdf95次 下載檔案 推薦閱讀