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半導體之CMP技術與市場發展

• 2025/04/30
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半導體製程中CMP是一個消耗品密集型製程，拋光墊、研磨液、以及清洗液等消耗品的成本在總擁有成本中占比較高。廠商皆希望在不影響性能的前提下降低成本。因此，對於壽命更長、性能更優、且成本更具競爭力的消耗品需求至關重要。例如，了解在CMP材料方...