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曝光製程的目的是為了在晶圓上製作圖樣，隨著摩爾定律的演進，電晶體密度更高，結構變得更細緻、更複雜，使得曝光設備在半導體生產過程中非常重要。在前段晶圓製造的設備市場中，曝光設備的占比最高(27%)，2020年到2025年之間，用於製造先進晶片的EUV設備年複合成長率為21.1%，遠高於半導體設備平均成長率9.0%。曝光設備不可取代的地位，使得全球的領導設備商與零組件廠商，都希望可以掌握下世代半導體曝光設備的關鍵模組或技術，強化國家在半導體製造的供應鏈自主性。我國在曝光技術目前仍然落後，因此本文章期待透過呈現全球曝光製程生態系、曝光設備市場趨勢、EUV生態系的動態，以及我國半導體競爭國家中國及韓國於曝光製程設備之投入狀況，協助我國有意願投資曝光製程之設備業者，能夠找到適合發展的產品與機會。

【內容大綱】

• 一、半導體曝光製程生態系
• 二、半導體曝光設備市場
• 三、EUV生態系之設備發展動態
• 四、中國與韓國在下世代曝光製程之設備發展
• IEKView

【圖表大綱】

• 圖1、半導體曝光製程生態系示意圖
• 圖2、半導體各類型曝光機單價趨勢，(上圖) EUV單價趨勢以及規格演進；(下圖) I-line、KrF、ArF、ArFi單價趨勢。
• 圖3、2020年~2025年全球半導體各類型曝光機台數目
• 圖4、2020年~2025年全球半導體各類型曝光機市場規模
• 圖5、ASML量測與曝光雙工件台運作示意圖
• 圖6、FST為光罩廠和晶圓廠，提供完整的光罩保護膜和光罩盒相關設備