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        半導體產業廢硫酸循環再利用模式
        Spent Sulfuric Acid Recycling Model of Semiconductor Industry
        • 2021/12/30
        • 1737
        • 72

        半導體晶圓製造硫酸需求量大、純度極高,為半導體製程第一大使用量原物料、佔比約50%,未來主流製程朝向晶圓直徑增大、線寬/線距縮小、晶圓製程步驟增加、製程步驟特殊化等高精密方向發展,未來廢硫酸產出量在晶圓清洗需求大幅成長下將快速增加,國內廢硫酸去化壓力也將越來越大,既有再生為工業級硫酸並降階應用通路將快速飽和。因此廢硫酸回收後如何妥善處理以及再利用產品通路,是國內半導體業者及回收業者最關心課題之一。

        本文分析國內半導體晶圓製造產業電子級硫酸及廢硫酸物質流向與再利用現況,同時彙整國際半導體大廠廢硫酸案例,最終提出未來我國半導體產業廢硫酸循環再利用發展策略建議。

        【內容大綱】

        • 一、我國電子級硫酸市場概況
          • (一)市場規模
          • (二)硫酸進出口概況
          • (三)產業鏈
        • 二、我國半導體產業電子級硫酸及廢硫酸物質流向分析
        • 三、國際半導體大廠廢硫酸再利用及硫酸減量使用案例
          • (一)美商Intel
          • (二)韓商SK hynix
          • (三)韓商Samsung
        • IEKView
         

        【圖表大綱】

        • 圖一、臺灣硫酸進出口規模
        • 圖二、2020年臺灣硫酸進出口地區佔比
        • 圖三、2020年臺灣硫酸進出口產業佔比
        • 圖四、我國電子級硫酸產業鏈
        • 圖五、2020年我國半導體產業電子級硫酸及廢硫酸物質流向圖
        • 圖六、2020年我國半導體廢硫酸及硫酸銨廢液再利用流向及合格處理業者
        • 圖七、南韓半導體製造商SK hynix廢硫酸回收再利用模式

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