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        半導體微型化重點材料之光阻劑
        The Key Material for Semiconductor Miniaturization - Photoresist
        • 2021/06/18
        • 780
        • 52

        為因應物聯網Device數量增加和通訊之數據量持續成長,使先進半導體製程不斷演進,且因5G技術具備大連結,超高速,低延遲的三大主要優勢,預期將可帶動全球防疫科技、智慧家庭、智慧製造、智慧 醫療、汽車電子等應用需求持續提升;對於產業面來說:製造業、農業、健康照顧業、運輸事業、教育業、甚至公共安全等,皆因此而受惠。同時為配合IoT裝置、終端消費電子等產品持續微型化與功能多樣化的要求,晶片整合的需求與日俱增,製程端也不斷透過縮短曝光波長以提高晶片上線路的解析度,藉以達到IC電路更高密度的佈局來減小產品體積,其中光阻劑即是微影製程中最關鍵的角色之一。

        【內容大綱】

        • 一、不斷微縮的晶片技術
        • 二、光阻劑材料種類
        • 三、全球光阻劑市場分析
        • 四、全球光阻劑銷售動向
        • 五、廠商動態
          • (一)ArF光阻劑供應大廠-JSR
          • (二)超紫外線(EUV)光阻劑開發先驅-東京應化工業
          • (三)在台設廠於設立研發中心之信越化學工業
          • (四)基礎聚合物起家之住友化學
          • (五)日韓貿易戰下備受關注之DuPont
          • (六)提升光阻劑自製率的永光化學
        • IEKView
         

        【圖表大綱】

        • 圖一、邏輯製程的演進
        • 圖二、IC製作流程
        • 圖三、2019~2024年全球光阻劑材料銷售趨勢預估
        • 圖四、全球光阻劑銷售佔比
        • 圖五、從ArF至EUV圖案化技術的進化

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