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        氧化鎵基板製造技術與市場分析
        Gallium Oxide Substrate Manufacturing Technology and Market Analysis
        • 2022/12/15
        • 1490
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        高科技設備與先進製程

        簡報大綱

        • 壹、氧化鎵材料特性與研究背景
        • 貳、氧化鎵基板製造技術與應用
        • 參、氧化鎵基板市場趨勢與展望
        • 肆、IEKView

        簡報內容

        氧化鎵基板製造技術與市場分析Gallium Oxide Substrate Manufacturing Technology and Market Analysis
        NO.1
        大綱
        NO.2
        研究背景
        NO.3
        研究背景
        NO.4
        氧化鎵β-Ga2O3晶體特性比較
        NO.5
        氧化鎵β-Ga2O3晶體特性比較
        NO.6
        氧化鎵β-Ga2O3晶體特性比較
        NO.7
        氧化鎵β-Ga2O3晶體結構
        NO.8
        大綱
        NO.9
        長晶方法發展
        NO.10
        單晶尺吋突破
        NO.11
        氧化鎵單晶長晶方法
        NO.12
        氧化鎵基板製程與理論成本比較(非市價)
        NO.13
        創新技術-冷坩堝法(無銥、鉑金屬坩堝)
        NO.14
        大綱
        NO.15
        氧化鎵全球研發布局趨勢
        NO.16
        市場規模與趨勢變化
        NO.17
        氧化鎵全球市場分析
        NO.18
        氧化鎵製程技術領導廠商及研究領域
        NO.19
        Novel Crystal Technology ,Inc.(NCT)
        NO.20
        Kyma Technologies
        NO.21
        FLOSFIA
        NO.22
        氧化鎵基板市售價格分布
        NO.23
        關鍵加工技術-切片損耗(Kerf-loss)最小化
        NO.24
        關鍵加工技術-Ion Slicing & Bonding
        NO.25
        大綱
        NO.26
        IEKView
        NO.27
        謝謝
        NO.28
        下載檔案

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