艾司摩爾：新EUV能耗減少
- 《聯合報》，記者簡永祥／台北報導
- 2024/9/7 上午0:00
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半導體設備業者艾司摩爾（ＡＳＭＬ）昨日在SEMICON Taiwan半導體展，分享新一代高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影技術，艾司摩爾High NA EUV產品管理副總裁Greet Storms表示，新一代設備雖貴，但絕對值得。
High NA EUV於二○二三年問世，去年底出貨給首家下單的美系客戶，亞洲客戶將於今、明年陸續安裝。
不過，ＥＵＶ設備被喻為吃電怪獸，但ＡＳＭＬ提出統計指出，二○一八年到二○二三年五年間，ＥＵＶ曝光每片晶圓能耗減少近百分之四十，希望到二○二五年再減少近百分之卅五能耗。
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