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半導體先進微影技術由浸潤式（immersion）轉向極紫外光（EUV）勢不可擋，包括英特爾、台積電、三星、SK海力士等全球前四大半導體廠已開始全面導入EUV技術並建置全新生產線，第五大廠美光亦傳出加速評估在DRAM製程採用EUV技術，不僅艾司摩爾（ASML）EUV曝光機產能滿載到2022年之後，法人看好家登（3680）、帆宣（6196）、崇越（5434）、翔名（8091）、公準（3178）等EUV概念股接單旺到明年。

在邏輯製程部份，台積電、三星晶圓代工在去年已開始採用EUV技術量產7奈米製程，今年底前兩家業者也開始量產EUV光罩層數倍增的5奈米。

英特爾則預期導入EUV的7奈米製程明年進入生產。

其中，台積電在EUV布局大幅領先同業，已成為全球擁有最大EUV產能的半導體廠，南科Fab 18A廠將在明年上半年完成月產能達9萬片的5奈米產能建置，Fab 18B廠預期會在2022年量產EUV光罩層逾20層的3奈米。

在DRAM製程的部份，包括三星、SK海力士、美光等三大DRAM廠的EUV競賽已經開跑。

三星1Z奈米開始採用EUV技術，今年3月宣布基於EUV的10奈米DDR4出貨逾百萬顆，8月再宣布平澤P2廠導入EUV技術量產16Gb LPDDR5。

SK海力士已評估在1a奈米採用EUV技術，利川M16廠預期明年上半年量產基於EUV的DDR5。

美光則加速評估EUV導入時間及製程節點，預期2021年規劃在台灣興建的A5廠可能會建置EUV產線。

全球前五大半導體廠轉向EUV，推升ASML的EUV曝光機接單滿到2022年之後，ASML第二季底在手EUV曝光機訂單已達54台，業界估計今年底有機會上看70台。

法人看好EUV機台次系統模組代工廠帆宣、精密零件供應商公準等下半年接單暢旺，訂單能見度看到了明年下半年。

此外，台積電、三星、英特爾等大廠持續擴建EUV產能，且製程微縮至5奈米及3奈米的EUV光罩層數倍數增加，提供EUV光罩盒（EUV Pod）的家登受惠最大，今、明兩年產能均已被大客戶預訂一空，打進EUV Pod表面處理及鍍膜製程的翔名同步受惠。

至於EUV產能大幅提高，代理EUV光阻液的崇越接單暢旺，訂單同樣排到明年下半年。