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繼台積電、三星晶圓代工、英特爾等國際大廠在先進邏輯製程導入極紫外光（EUV）微影技術後，同樣面臨製程微縮難度不斷增高的DRAM廠也開始評估採用EUV技術量產。

三星電子今年第四季將開始利用EUV技術生產1z奈米DRAM，SK海力士及美光預期會在1α奈米或1β奈米評估導入EUV技術。

隨著EUV成為微影技術主流，法人看好EUV光罩盒供應商家登（3680）直接受惠。

家登5月受惠於8吋及12吋光罩載具出貨強勁，加上EUV光罩盒獲晶圓代工廠大單出貨放量，推升單月合併營收月增137.4％達2.99億元並創歷史新高，與去年同期相較成長163.4％，累計前5個月合併營收8.34億元，較去年同期成長41.2％。

法人預估家登6月營收雖會回落，但第二季營收可望創下歷年同期新高，下半年營運會優於上半年。

家登第二季營運優於預期，主要關鍵在於EUV光罩盒出貨暢旺。

由於先進製程採用EUV微影技術已是趨勢，在台積電第二季EUV技術7+奈米進入量產階段並獲華為海思訂單後，三星晶圓代工也採用EUV量產7奈米製程，英特爾預期2021年7奈米會首度導入EUV技術。

而隨著製程持續推進至5奈米或3奈米後，EUV光罩層會明顯增加2～3倍以上，對EUV光罩盒需求亦會出現倍數成長。

另外，占全球半導體產能逾3成的DRAM，也開始逐步導入EUV技術。

業者指出，DRAM市場供給過剩且價格跌至變動成本，DRAM廠雖然放緩產能擴充但無法讓價格明顯止跌，維持獲利的唯一方法就是微縮製程來降低單位生產成本。

不過，DRAM製程向1z奈米或1α奈米製程推進的難度愈來愈高，隨著EUV量產技術獲得突破，或可有效降低DRAM成本。

三星預期在今年11月開始量產採用EUV技術的1z奈米DRAM，量產初期將與三星晶圓代工共享EUV設備，初期使用量雖不大，但卻等於宣示DRAM光罩微影技術會朝EUV方向發展。

至於SK海力士及美光也已表明開始評估採用EUV技術，業界預期將可能在1α奈米或1β奈米世代開始導入。

總體來看，在邏輯IC及DRAM的先進製程開始採用EUV技術後，對EUV光罩盒需求在明、後兩年都會呈現倍數成長，由於全球通過艾司摩爾（ASML）認證的光罩盒供應商只有美商英特格（Entegris）及台灣家登等兩家業者。

法人認為，家登EUV光罩盒生產線位於台灣，可坐收地利之便就近提供協助，可望成為最大受惠者。