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        3D-IC晶圓薄化關鍵技術與材料
        • 2013/04/03
        • 4753
        • 144

        【內容大綱】

        • 一、前言
        • 二、晶圓薄化製程
        • 三、晶片的堆疊與結合(Bonding)
        • 四、專家觀點

        【圖表大綱】

        • 圖一 厚度5um thin wafer(ITRI/Ad-STAC)
        • 表一 各家暫時性接著劑比較
        • 圖二 BrewerScience公司晶圓薄化的製程
        • 圖三 Zonebond製程
        • 圖四 Zonebond接著均勻性測試
        • 圖五 Zero Newton晶圓薄化系統
        • 圖六 De-bonding機制
        • 圖七 3M Wafer Support System(WSS)材料介紹
        • 圖八 3M wafer support system(WSS) bonding/de-bonding製程介紹
        • 圖九 HD-3007特性規格表
        • 圖十 HD-3007 bonding製程條件
        • 圖十一 HD-3007 de-bonding製程條件
        • 圖十二 T-MAT Process

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