如果EUV的發展延期了-從製造成本方面探討 2013/06/13 2578 99 蕭凱木 訂閱(0) 全選 取消選取 確認訂閱 IC元件與技術 #將會 #微影設備 #製程 【內容大綱】 一、微影設備市場需求 二、發展EUV設備的必要性 三、IEK View 【圖表大綱】 圖一 雙重曝光製造流程 圖二 黃光微影設備支出佔設備總支出比例 圖三 黃光微影設備分類趨勢圖 圖四 使用雙重曝光技術與EUV所需之製程設備與佔用空間比較 圖五 資本支出與EUV研發失敗預測 本文為 K卡會員相關模組訂戶 限閱文章， 請先登入或升級。 本文檔案如果EUV的發展延期了-從製造成本方面探討.pdf99次 下載檔案 推薦閱讀