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        半導體曝光製程生態系及設備發展動態
        Semiconductor Photolithography Process Ecosystem and Equipment Development Trends
        • 2022/01/12
        • 2980
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        曝光製程的目的是為了在晶圓上製作圖樣,隨著摩爾定律的演進,電晶體密度更高,結構變得更細緻、更複雜,使得曝光設備在半導體生產過程中非常重要。在前段晶圓製造的設備市場中,曝光設備的占比最高(27%),2020年到2025年之間,用於製造先進晶片的EUV設備年複合成長率為21.1%,遠高於半導體設備平均成長率9.0%。曝光設備不可取代的地位,使得全球的領導設備商與零組件廠商,都希望可以掌握下世代半導體曝光設備的關鍵模組或技術,強化國家在半導體製造的供應鏈自主性。我國在曝光技術目前仍然落後,因此本文章期待透過呈現全球曝光製程生態系、曝光設備市場趨勢、EUV生態系的動態,以及我國半導體競爭國家中國及韓國於曝光製程設備之投入狀況,協助我國有意願投資曝光製程之設備業者,能夠找到適合發展的產品與機會。

        【內容大綱】

        • 一、半導體曝光製程生態系
        • 二、半導體曝光設備市場
        • 三、EUV生態系之設備發展動態
        • 四、中國與韓國在下世代曝光製程之設備發展
        • IEKView
         

        【圖表大綱】

        • 圖1、半導體曝光製程生態系示意圖
        • 圖2、半導體各類型曝光機單價趨勢,(上圖) EUV單價趨勢以及規格演進;(下圖) I-line、KrF、ArF、ArFi單價趨勢。
        • 圖3、2020年~2025年全球半導體各類型曝光機台數目
        • 圖4、2020年~2025年全球半導體各類型曝光機市場規模
        • 圖5、ASML量測與曝光雙工件台運作示意圖
        • 圖6、FST為光罩廠和晶圓廠,提供完整的光罩保護膜和光罩盒相關設備

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