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（中央社記者張建中新竹2020年10月28日電）台積電研發副總經理曹敏專注研發多年，他曾帶領上千人團隊，成功開發20奈米，讓台積電晶圓密度超越英特爾，之後又協助開發10奈米，是台積電先進製程發展重要推手。

內政部今天公布歸化國籍高級專業人才審查會審查結果，美國籍的曹敏通過審查，歸化成為台灣人，再度受到各界矚目。

曹敏畢業於上海復旦大學電子工程學系，之後赴美留學，取得美國史丹佛大學物理系博士學位。

他於2002年加入台積電，除20奈米外，曹敏多年來還協助台積電成功開發90奈米、65奈米、40奈米及28奈米等多項先進製程技術。

曹敏過去最為人津津樂道的是，他曾帶領台積電（2330）1400人團隊，進行跨部門合作，歷經3年的堅持努力，突破高介電材料/金屬閘技術，並創新採用雙重曝光技術，成功開發20奈米製程技術。

這項成果讓台積電的晶圓密度能夠超越全球晶片巨擘英特爾（Intel），技術大幅領先國際，增強台積電的競爭力，確保在晶圓代工領域的領先地位，並於2013年獲得經濟部國家產業創新獎的年度創新突破獎肯定。

曹敏於2006年至2008年帶領開發40奈米泛用型製程技術，是台積電首款利用超密度微縮的奈米製程；他在2009年首次利用高介電常數金屬閘極技術，成功帶領開發28奈米高效能製程。曹敏之後還帶領團隊開發10奈米製程技術，是台積電先進製程發展重要的推手。