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      ASML單滿手 家登、帆宣沾光
      • 工商時報,涂志豪/台北報導
      • 2019/10/18 上午5:30
      • 614

      由於英特爾、台積電、三星電子等全球三大半導體廠,確定會在7奈米及更先進製程大量採用EUV技術,微影設備大廠艾司摩爾(ASML)第三季極紫外光(EUV)機台接單量大爆發,單季新增23台新訂單並創下新高紀錄。

      法人看好EUV光罩盒(EUV Pod)供應商家登(3680)、EUV雷射穩壓模組代工廠帆宣(6196)將直接受惠。

      ASML執行長Peter Wennink在線上法說會中表示,包括人工智慧(AI)以及5G等創新應用,帶動更高運算效能及更低功耗的晶片需求,且採用7奈米及更先進製程,帶動半導體廠對EUV及DUV(深紫外光)設備需求持續增加。

      記憶體市場因為仍在去化庫存,未來前景仍充滿不確定性,但預期在微影設備的安裝仍會有小幅度成長。

      事實上,台積電已採用EUV技術量產7+奈米,三星晶圓代工也宣布支援EUV技術7奈米量產投片,英特爾也啟動採用EUV技術的7奈米製程研發。

      同時,三星及SK海力士等記憶體廠,也在評估在部份DRAM光罩中採用EUV技術。

      ASML受惠於晶圓代工廠及記憶體廠的擴產需求,第三季完成7台EUV設備系統出貨,其中有3台是可以提升生產力35%的新一代NXE:3400C機台。

      ASML預估第四季將完成8台EUV設備系統出貨,其中會有6台是NXE: 3400C機台。

      而在新接訂單部份,ASML第三季接單大爆發,再度獲得主要客戶共23台EUV系統訂單,創下單季接單量新高紀錄。

      Peter Wennink表示,已看到客戶宣布採用EUV製程晶片已被應用在終端裝置,邏輯及記憶體客戶都積極採用EUV,對今年及明年展望樂觀。

      根據ASML的預估,月產能達4.5萬片的7奈米或5奈米12吋晶圓廠,每增加1層EUV光罩層需求,就要搭配1台EUV機台系統支援,對應增加約240~260顆EUV Pod採購量。

      設備業者表示,7奈米EUV光罩層約4~6層,但5奈米會大幅提升到14層,對EUV Pod需求大躍進,看好家登將直接受惠。

      另外,ASML手中EUV訂單持續湧入,隨著EUV系統出貨逐季提高,已打進EUV生態系統的帆宣亦將受惠。

      帆宣與ASML合作多年,承接EUV雷射穩壓模組代工訂單,訂單能見度等同於已看到明年。

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