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晶圓代工龍頭台積電（2330）在法人說明會中宣布，支援極紫外光（EUV）微影技術的7+奈米將如期在今年第二季進入量產，至於同樣在第二季進入試產的5奈米製程，將會有更多層光罩採用EUV技術。

法人看好打進台積電供應鏈的EUV光罩盒（EUV Pod）的家登（3680）將直接受惠，今年營運看旺。

雖然台積電上半年面臨7奈米產能利用率下滑壓力，但是並不影響支援EUV的7+奈米量產計畫。

據了解，華為旗下IC設計廠海思是首家採用7+奈米投片的客戶，所以台積電第二季就會開始量產7+奈米製程。

此外，採用EUV技術的5奈米也會在第二季開始試產，台積電總裁暨執行長魏哲家指出，5奈米將會是個重要且生命周期很長的製程節點，明年上半年進入量產的目標不變。

台積電今年開始採用EUV技術量產，法人看好EUV光罩盒供應商家登將直接受惠。

事實上，家登EUV光罩傳送盒G/GP Type去年獲得設備大廠艾司摩爾（ASML）認證，在客戶訂單加持下，去年12月合併營收月增36.0％達2.38億元，其中半導體載具業績就達1.43億元，創家登成立以來載具產品線單月歷史新高。

家登去年第四季合併營收季增52.1％達5.55億元，全年合併營收年減6.9％達16.38億元。

家登去年雖然可能出現虧損，但今年展望樂觀，家登表示，看準微影技術先進製程量產階段即將來臨，無論是人工智慧（AI）、物聯網、5G、高效能運算（HPC）等皆仰賴7奈米以下高階製程，家登配合各大半導體廠高階製程腳步發展，搭配ASML的出機進度，家登調配產能即時供貨，站穩未來半導體載具領導廠商地位。

家登新版本的EUV光罩傳送盒G/GP Type協助全球半導體大廠在7奈米以下晶圓製程可以大量製造，透過優異防污染、防缺陷性能，提高客戶製程產品良率。

G/GP Type不僅適用ASML最新曝光機NXE 3400B，還全面通用於過去所有的曝光機機型，現有高端客戶不管在EUV的生產或研究上，家登的EUV光罩盒都能發揮效能。

家登今年EUV光罩盒接單接到手軟，客戶訂單量在2019年急速攀升，搭配中國市場半導體客戶晶圓載具認證通過的訂單效益，第一季營運強勁，第二季訂單能見度高，可望有效拉升載具本業營運獲利，2019年可望創下營運高峰。