半導體下世代製程發展難題 2014/08/25 2319 78 陳婉儀 訂閱(0) 全選 取消選取 確認訂閱 IC元件與技術 #製程 #微影 #線寬 【內容大綱】 一、先進製程技術的瓶頸 二、關鍵的微影技術,光源的選擇? 三、IEKView 【圖表大綱】 表一 先進製程技術的電晶體演進 圖一 製程微縮與微影技術的演進關係 表二 下世代微影技術的選擇 本文為 K卡會員相關模組訂戶 限閱文章, 請先登入或升級。 本文檔案半導體下世代製程發展難題.pdf78次 下載檔案 推薦閱讀